e. "Stored programme controlled" sputter deposition production equipment capable of current densities of 0.1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 µm/h or more;
هـ- معدات إنتاج للترسيب بالرش "المحكومة ببرنامج مخزن" قادرة على معالجة كثافات حالية تبلغ 0.1 ميكروأمبير/مليمترمربع أو أكثر بمعدل ترسيب يبلغ 15 مايكرو/ساعة أو أكثر؛
b. Contrarotating propeller systems rated at more than 15 MW;
هـ- معدات إنتاج للترسيب بالرش "المحكومة ببرنامج مخزن" قادرة على معالجة كثافات حالية تبلغ 0.1 ميكروأمبير/مليمترمربع أو أكثر بمعدل ترسيب يبلغ 15 مايكرو/ساعة أو أكثر؛